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レーザー加工用集塵機 CHPシリーズは、粘着性の高いヒュームや多量の粉塵が発生し、通常の集塵機ではフィルタ目詰まりが起きやすい使用環境でも、長時間吸引力が低下せずに使用することができます。CBA-750/1000/1500と比べて、集塵容量や塵落とし機能を強化しており、粉塵が多量に発生するレーザーマーキング工程やレーザー剥離工程に適しています。

集塵機の構造と特長

1. 1次フィルタ
   剥離性の高いテフロン微孔膜フィルタを採用しており、払落としによるクリーニング効果を最大限に発揮できます。
   

■ 独自の巻き上げ機構により、ゼオライトをプリコート

捕集効率が0.5μ99.99％以上のフィルタにゼオライトをプリコートすることで、レーザー加工で発生したヒュームや微粒子を吸着・捕集します。吸引ブロアにより、吸引された空気中のヒュームや微粉塵は、ゼオライト吹き上げ口から舞い上がり、同時にゼオライトを巻き上げながらフィルタに積層させます。

■ 塵落とし機能（パルス式）

独自の連続パルスエアー（圧縮空気）洗浄機能を採用しております。パルス洗浄のインターバルタイムを変更することができます。


2. 活性炭BOX
   脱臭用活性炭BOXを標準装備しています。
   

簡単な1次フィルタ室の取り外し機構

左右のパッチン錠を外し正面の蓋を開けると、スロープに早変わり。1次フィルタ室左右のレバーを引き下ろし、スロープ上を転がして取り外せます。